越来越多的半导体过程挑战依赖水、化学物、溶剂和无产量杀亚微分或纳米大小粒子的气体,以及从湿料中滤取的金属、离子和有机污染物。过滤这些流水是半导体过程和其他微电子过程的关键需求滤波净化设备必须清除上游粒子源粒子,同时不产生其他意外污染物提供广线过滤产品 通过我们的伙伴Cobeter过滤
选择程序
剖析关键特征和惠益
PleavaidCMP滤波序列 |
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PleavaledCMP滤波完全适合更高层固态稀疏群聚宽角提供更多表面积提高服务寿命并减少滤波转换 墨盒和胶囊有广孔尺寸从0.1m到5.0m光效墨盒滤波器可用全局循环保护工具滤波类胶囊套接式设计有效终端滤波器,高端尤然固氧化石 |
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| 插件微机和纳米机媒体 | 提供高流率和泥土存储能力 高固态有效并减少聚积 |
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| 聚丙烯介质 | 兼容性与大多数稀疏 | |||||
| 冲刷超潮水 | 保证高净度和低粒子裁剪 | |||||
specs、l流曲线和部分数配置 |
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Keevalid滤波序列 |
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Keevalid CMP滤波极有效清除引起污染物缺陷连续分级孔结构消除引起粒子的缺陷,同时不改变滑动制造预期粒子大小分布滚动纳米飞机提供相似分类,但流特性较高 墨盒和胶囊从70m到40m等广孔大小,适合延长下游工具滤波或最后缺陷消解法 |
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| 级密度PP深度媒体 | 高效清除反作用粒子而不改变预期工作粒子大小分布 | |||||
| 可选滚动PPNANOFIER媒体 | 提供最高通量率和高效消除污染物 | |||||
| 冲刷超潮水 | 保证高净度和低粒子裁剪 | |||||
| 墨盒长度20 | 高流源和全球循环应用可用墨盒长度 | |||||
| 形形色色的Capsule大小 | 最适配工具流和空格 | |||||
specs、l流曲线和部件数配置器 |
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双validCMP滤波序列 |
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双validCMP滤波为集成电路制造厂商和化学机械平滑板制作厂商独家设计cobeter专利构造组合二片滤波技术、宽角和滚度密度聚丙烯介质外宽剖面增加介质表面积并推延滤波寿命,而核心周围滚动介质构造提供有效保留粒子,这些粒子有可能在水槽表面引起抓痕 双维度对稀疏比较宜降压,同时不放弃高效反作用粒子清除 |
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| 外层宽格 | 提供高流率和泥土存储能力 | |||||
| 内多层纳米fiber滚动媒体 | 高通量率高效缺陷导致粒子清除 | |||||
| 聚丙烯介质 | 兼容性与大多数稀疏 | |||||
| 冲刷超潮水 | 保证高净度和低粒子裁剪 | |||||
specs、l流曲线和部分数配置 |
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查看关键特征和惠益串联电子化材料滤波
Novacon滤波序列 |
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Novacon®串行滤波专为稀释酸基和其他流程化学混合物作为一种成本效益高的替代低温潮湿净化应用PES非对称膜提供高值保留粒子(下至1nm)益性特征包括高流率高粒子控件容量延长滤波寿命并发膜高面能有效减少泡泡编队期间流水流 HDPE高密度聚乙烯支持和墨盒结构保证低金属提取过滤Novacon一次性过滤器含聚物壳和单件结构设计提供高机械强度和制造安装更容易 |
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| 高度对称PES膜 | 组合优保留量高流 超净性能箱外结果加速启动,减少设备操作前时间 低表面作用绑定 |
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| 高纯度HDPE结构与PFA外壳 | 良好的化学兼容性 低金属提取器 |
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| 高膜表面积 | 高流率延长寿命 | |||||
| 行业标准连接 | 易安装替换 | |||||
| 高净度选项 | 满足金属、阴离子和有机污染物严格过程要求 | |||||
| 预湿选项 | 提供方便并减少产品污染机率 | |||||
specs、l流曲线和部件数配置器 |
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防染屏滤波序列 |
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ChemfrictTM滤波序列特别设计并最合宜高温腐化物包括热H2SO4,H级3PO语言4和HNO3.PTFE膜保证极佳化学兼容粒子清除广度酸基溶剂超净全浮聚合物构造构造最小化金属提取器和其他污染物 高膜表面积选项提供高流率扩展服务寿命满足高要求过程和工具可用性需求 行业标准超净连接和预湿选项减少设备搭建时间单件结构设计可用T、L和内联配置新安装易替换性 |
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| 全含氟聚合物构建 | 极化学兼容性 超低金属提取器 |
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| 高膜表面积 | 高流率延长寿命 | |||||
| 行业标准连接 | 易安装替换 | |||||
| 高净度选项 | 满足金属、阴离子和有机污染物严格过程要求 | |||||
| 预湿选项 | 提供方便并减少产品污染机率 | |||||
specs、l流曲线和部件数配置器 |
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ChemRapid滤波序列 |
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ChemrapidTM串行滤波由表面修改PTFE膜组成,与PFA绑定,产生超低金属提取高地表能解决进程化工去湿问题, 特别是那些易排气问题 |
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全含氟聚合物构建 |
高化学兼容度和超低金属提取 | |||||
表面修改PTFE |
抗药性去湿度最小化服务中断 | |||||
100%完整性测试 |
确保从头完全抓取粒子 | |||||
高有效过滤区选项 |
高流率、低压下降和长服务寿命 | |||||
预湿选项 |
减少设备操作前时间 | |||||
specs、l流曲线和部分数配置 |
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切姆瓦特滤波序列 |
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Cobeter ChemvastTM滤波序列分三大类mbranes包括疏水PTFE、水益PTFE或非调湿PTFE HDPE支持结构过滤器高度兼容最低温稀释半导体过程化学Chemvast分布式广度保留评分和孔孔大小满足客户需求 非下调PTFE通过增加表层阻抗下调光膜能提高流率过滤效率HDPE笼子核心和高纯度mbrane Chemvast比e低成本替代全氟聚合Chemrapid®滤波序列脉冲流水PTFE膜可用于过滤稀释酸和碱化学家和极地溶剂不预湿 |
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| HDPECage/Core | 良好的化学兼容性 低金属提取 费用比全氟聚合滤波器低 |
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| 非下调PTFE膜选项 | 抗争者低温排气化学 增强粒子保留 |
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| Hydric PTFE膜选择 | 无预湿 稀释高频解决方案和极地溶剂性能良好 |
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| 预湿选项 | 减少操作前时间 易启动水基化学 |
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| 100%完整性测试 | 保证高效粒子保留 | |||||
specs、l流曲线和部件数配置器 |
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Chemega滤波序列 |
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Cobeter ChemegaTM滤波带疏水和高效水PTFE膜满足各种高纯度化学和溶剂过滤应用程序 滤波高度兼容最低温稀释半导体过程化学和溶剂Chemega提供各种保留评分孔尺寸满足客户需求 Chemega多片笼子核心高纯度PTFE薄膜低金属可提取性并是一种高纯度和高粒清除法的良好的过滤法需要 。ChemegaHydric PTFE膜可用于过滤稀释酸碱化工和极地溶剂不预湿 |
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| Polypropylene Cage/Core | 良好的化学兼容性 低金属提取 |
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| Hydric PTFE膜选择 | 无预湿 稀释高频解决方案和极地溶剂性能良好 |
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| 预湿选项 | 减少操作前时间 易启动水基化学 |
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| 100%完整性测试 | 保证高效粒子保留 | |||||
specs、l流曲线和部分数配置 |
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ePPX滤波序列 |
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EPPXGF滤波盒建电子级PP高效有效预过滤过程冷水和纯化化学剂和溶剂 | |||||
| 高孔纳米纤维媒体 | 高流率、较长使用寿命、高成本效益设备 | |||||
| 高纯度PP加热熔化而不使用粘合 | 可提取性低 快速恢复阻抗基线 |
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| 全聚丙烯构造 | 极化学兼容性与大多数酸基溶剂 | |||||
| 清除评分从0.1m至25m | 满足各种要求和规范 | |||||
| 质量保证 | 制造设施坚持ISO9001实践 | |||||
specs、l流曲线和部分数配置 |
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ifendRO滤波序列 |
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ifendTM高服务时间FDP串式滤波由连续滚动微飞器制成,可提供比RO前水处理中正常熔化滤波大3x生命周期过滤器通常用于需要较长寿命、高泥容量和低变换功率的地方。 | |||||
| 连续滚动PP分级微飞媒体 | 高污染物存储容量 好粒子保留效率 |
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| 多端封套选项 | 适合各种行业标准房使用易安装现有设备 | |||||
| 广孔度 | 提供滴入式解决方案广度水预过滤应用 | |||||
| 长度到40英寸 | 高流粒子挑战应用 | |||||
specs、l流曲线和部分数配置 |
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ifend高频滤波序列 |
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ifendTMFDPHF高流滤波盒大直径6英寸单开放盒式滤波带聚丙烯核心、笼子并端帽大直径滤波达90平方英尺2八十四米2过滤区域最大流速达396gpm3/hr)单片弹盒流向从内部向外保证所有污染屏蔽过滤器 有两种媒体选项多层聚丙烯和PTFE,这些滤波流率远高于典型墨盒滤波并快速易换 聚丙烯纤维介质提供高效滤波纯水制造PTFE膜里frifend精选散装化学过滤 |
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| 多层聚丙烯套接合结构,6英寸滤波 | 大过滤区高污染物存储容量和高吞吐量 | |||||
| PTFE媒体 | 从20纳米到10微米的清除评分中可用,使它成为需要高流化化学过滤应用的优选 | |||||
| 纯聚丙烯核心和笼 | 提供净度和强度 良好的化学兼容性 |
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specs、l流曲线和部分数配置 |
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onGardSL净化器系列 |
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Cobeter IonGardTMSL净化器专为清除金属设计光阻剂和超高纯度溶剂产生的污染物 修改离子交换组薄膜表面IonGardSL净化器提供快速有效金属离子清除能力树脂混合体 可用各种大小配置满足所有需求 |
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| 修改PE净膜 | 高金属清除效率 提供高离子交换能力 提供全金属清除超净化工 |
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| 超净HDPE胶囊 | 超清洁胶囊和行业标准配件完全适合研究小批量生产 | |||||
| 制造净室 | onGardSL净打包并准备安装 | |||||
| 墨盒长度20 | 理想阻抗和溶剂生产线 | |||||
specs、l流曲线和部件数配置器 |
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onGardDL净化器系列 |
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Cobeter IonGardTMDL净化器专门设计用于半导体动画刷新应用 ionGardDL净化器使用聚乙烯和聚醚复合薄膜结构保证微量金属离子和微粒在 wifer表面极佳清除超清洁产品设计最小启动时间和故障时间 onGardDL提供各种大小配置以满足所有需求 |
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| 聚醚素滤膜配有修改PE离子交换介质 | 高端清除关键净水应用 高去除效率粒子从7nm 超低粒子和金属离子提取 |
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| 超清洁胶囊 | 超净化胶囊和行业标准配件最理想研究用单片刷刷 设计适配有限空间工具安装 |
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| 制造净室 | onGardddL净打包并准备安装 | |||||
| 墨盒长度到30 | 长墨盒可用于高流化学混合生产 | |||||
specs、l流曲线和部件数配置器 |
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相片顶点Nylon滤波序列 |
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流速高性能、精良保留能力清洁性Cobeter相片顶点TM尼龙6.6滤波墨盒完全合宜For斐族电阻半导体中的溶剂和其他化学进程化 光点Nylon6.6滤波墨盒使用纯非元斐族ed水益尼龙薄膜保证金属提取和粒子净化上头斐族清洁性减少化学废物和处理时间安装 Cobeter相片快递Nylon6.6斐族斜体有各种大小骗局斐族语句满足你所有需求 |
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| cobetNylon6.6膜 | 自然流水媒体很容易用流水流出 吸附性能有效消除某些污染物 高粒子清除效率 |
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| HDPE或PP支持和结构 | 高化学兼容性 高净性,包括低金属提取 |
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| 墨盒长度20英寸 | 高流长服务寿命用于光化制造 | |||||
| 广域胶囊大小和行业配件 | 易安装和替换竞技胶囊 | |||||
| 高初始净度 | 减少预处理时间和化学垃圾 | |||||
| 100%完整性测试 | 消除异常粒子通道的可能性 | |||||
specs、l流曲线和部件数配置器 |
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光点UPE滤波序列 |
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保留等级从1nm到0.11m,CobeterPhotospexTMUPE分子重聚乙烯滤波盒保证极佳保留清洁性高化学兼容性满足关键需求半导体过程 Cobeter高纯度HDPE(高密度聚乙烯)高端清洗结构保证高净度低粒子裁剪唯一UPE膜形态学为两种硬粒子保留量最高和Gels高膜表面积选择高流率扩展服务寿命可能 Cobeter相片UPE滤波配置满足所有需求 |
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| UPE膜 | 高效清除硬软粒子 很容易用大多数溶剂和阻抗 抗争者稀释酸和碱化药 |
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| HDPE支持和结构 | 高化学兼容性 高净性,包括低金属提取 |
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| 高面积选项 | 高流率延长寿命 | |||||
| 广域胶囊大小和行业配件 | 易安装和替换竞技胶囊 | |||||
| 高净度选项 | 满足金属、阴离子和有机污染物严格过程要求 | |||||
| 预湿选项 | 减少操作前时间 易启动水基化学 |
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specs、l流曲线和部件数配置器 |
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Fluorolink串行 |
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流频链路TM全氟聚合物掩体设计超高纯化化学物、化学混合物和某些递进化学物应用 |
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行业标准配件 |
行业标准破解易安装 | |||||
紧凑设计 |
紧凑设计节省空间并理想化分发和工具应用 | |||||
高温评分 |
温度评分为100摄氏度最理想化化分配净化过程 | |||||
三大锁环选择 |
三大锁环材料选择可匹配化工和溶剂以实现稳健运算和长寿 | |||||
study加载括号 |
集成加固括号可安全安装 | |||||
大喷口/窗体 |
大口排水口和排水管促进更快排气和排水以减少启动和滤波变换时间 | |||||
化学兼容O环 |
TEVO-ring和Chemrazi选项来自Banner工业提供全方位化学兼容性和漏密 | |||||
specs、l流曲线和部件数配置器→ |
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HCP住宅系列 |
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HCP滤波房构建百分百自然聚丙烯或PVDF没有任何染色代理物或化工院舍提供广度化学兼容性并适合食品饮料、超纯水等高纯化应用 | |||||
百分百自然聚丙烯构建或PVDF |
提供清洁性广化学兼容性 低提取性-过滤过程不释放化学物和色素 |
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T行配置顶端插件和顶端插件 |
内端输出线配置允许管流嵌入 | |||||
排入底层 |
易排水 | |||||
specs、l流曲线和部分数配置 |
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